关于PVD涂层的详细介绍
2020-05-13 12:34:18
  PVD涂层告诉你较为成熟的 PVD 方法主要有多弧镀与磁控溅射镀的两种方式。多弧镀设备结构简单,容易进行操作。它的离子蒸发源靠电焊机电源。
 
       PVD 是英文“Physical Vapor Deposition”的缩写形式,意思是物理气相沉积。我们现在通常把真空蒸镀、溅射镀膜、离子镀等都称为物理气相沉积。
 
  PVD涂层告诉你插电即可工作,其引弧的过程也与电焊类似,具体地说,在一定工艺气压下,引弧针与蒸发离子源短暂接触,断开,使气体放电。由于多弧镀的成因主要是借助于不断移动的弧斑,在蒸发源表面上连续形成熔池,使金属蒸发后,沉积在基体上而得到薄膜层的,与磁控溅射相比,它不但有靶材利用率高,更具有金属离子离化率高,薄膜与基体之间结合力强的优点。
 
      此外,PVD涂层告诉你多弧镀涂层颜色较为稳定,尤其是在做 TiN 涂层时,每一批次均容易得到相同稳定的金黄色,令磁控溅射法望尘莫及。多弧镀的不足之处是,在用传统的 DC 电源做低温涂层条件下,当涂层厚度达到0.3μm 时,沉积率与反射率接近,成膜变得十分困难。
PVD涂层生产厂家
      而且,PVD涂层薄膜表面开始变朦。多弧镀另一个不足之处是,由于金属是熔后蒸发,因此沉积颗粒较大,致密度低,耐磨性比磁控溅射法成膜差。可见,多弧镀膜与磁控溅射法镀膜各有优劣,为了尽可能地发挥它们各自的优越性,实现互补,将多弧技术与磁控技术合而为一的涂层机应运而生。在工艺上出现了多弧镀打底,然后利用磁控溅射法增厚涂层,最后再利用多弧镀达到最终稳定的表面涂层颜色的新方法。 
 
      PVD涂层大约在八十年代中后期,发现了热阴极电子枪蒸发离子镀、热阴极弧磁控等离子镀膜机,应用效果非常好,使TiN 涂层刀具很快得到普及性的应用。其中热阴极电子枪蒸发离子镀,利用铜坩埚加热融化被镀金属材料,利用钽灯丝给工件加热、除气,利用电子枪增强离化率,不仅可以得到厚度 3~5μm的TiN 涂层,而且其结合力、耐磨性均有不俗表现,甚至用打磨的方法都难以除去。但是这些设备都只适合于 TiN涂层,或纯金属薄膜。对于多元涂层或复合涂层,则力不从心,难以适应高硬度材料高速切 削以及模具应用多样性的要求。
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